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超濾設備
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一、超濾膜組件規格說明 1.超濾膜組件的膜材料
2.凈水膜組件的規格屬性
3.建議膜組件的設計流量
注：以上數據僅供參考。 4.組件使用條件和清洗方法
以上數據僅供參考，測試條件為：25oC, 0.12MPa。 清洗應在超濾膜沒有造成嚴重污染之前進行，這樣很容易使膜的通量恢復到初始狀態，清洗的時間間隔一般以現場原水的試驗為依據。 二、超濾膜尺寸圖
3‐4040 外形尺寸
3‐5060 外形尺寸
3‐8060 外形尺寸 三、超濾運行示意圖
一般情況下，反洗和氣擦洗系統對CMF系統是必需的；通常還配備一個殺菌劑加藥系統以控制微生物等繁殖對超濾膜的影響；而分散化學清洗系統則在水質較差時配備。 1.反洗系統 反洗系統包括反洗水箱、反洗水泵及次氯酸鈉加裝置。 反洗水箱 超濾反洗用水一般采用超濾產水，故可以不另設單獨的反洗水箱，而采用超濾的產水箱。 反洗水泵 超濾由于采用頻繁的反洗技術，故應單獨設置反洗水泵。反洗水泵參數可以按以下選�。� 1）流量：膜組件反洗通量可以按 150~200L/m2.h，折合成膜組件流量后乘以單套裝置組件數量即可； 2）揚程：一般取 10~20 mH2O； 3）泵的過流材質應為不銹鋼。 次氯酸鈉加藥裝置 為抑制膜組件內細菌滋生，可以單獨設置該加藥裝置。加藥有兩種方式：一 種 是 在 進 水 中 連 續 加入1~5ppmNaClO ， 另 一 種 是 在 反 洗 水 中加入10~15ppmNaClO。次氯酸鈉加藥裝置含以下設備： 1）加藥箱：一般按一晝夜以上的藥品貯存量。加藥箱配低液位開關，低液位報警并停計量泵； 2）計量泵：按加入反洗水中次氯酸鈉濃度10~15 ppm或按進水中加入1~5ppm 濃度來確定計量泵的流量， 壓力大于 0.3 Mpa。 2.化學分散清洗系統 對于水質比較差的原水，建議在系統運行過程中增加化學分散清洗。根據水質情況選擇酸或堿洗裝置 之一，或者二者均選用�；瘜W分散清洗系統設備由加藥箱和計量泵組成。 酸洗加藥裝置 超濾進水中可能含有鐵、鋁等高價金屬的膠體或者懸浮物，也可能存在硬度等結垢傾向，這些雜質可 能造成超濾膜的無機物污染。在此情況下，建議在化學分散清洗過程中加一定濃度的酸溶液進行化學分散 清洗，所用的酸可根據具體原水水質情況選用鹽酸、草酸或檸檬酸等。 化學分散清洗酸加藥裝置含以下設備： 1）加藥箱：應保證一晝夜以上的藥品貯存量。加藥箱配低液位開關，低液位報警并停計量泵； 2）計量泵（或采用流量更大的磁力泵）：按加入浸泡水中酸的濃度(0.5~1%檸檬酸溶液、0.5~1%草酸溶液 或 0.4%HCl 溶液)確定計量泵的流量，壓力大于0.3 MPa。 堿洗加藥裝置 原水中的有機物是造成超濾膜污染的重要原因，為防止由有機物及活性生物引起的超濾膜組件的污染， 建議在化學分散清洗過程中加一定濃度的堿進行化學分散清洗，所用的堿溶液推薦采用濃度為0.1% NaClO + 0.05 % NaOH溶液。 化學分散清洗堿加藥裝置含以下設備： 1）加藥箱：一般按一晝夜以上的藥品貯存量。加藥箱配低液位開關，低液位報警并停計量泵； 2）計量泵（或采用流量更大的磁力泵）：按加入浸泡水中堿的濃度(0.1%NaClO + 0.05 % NaOH)確定計量泵的流量，壓力大于 0.3 MPa。當設置并使用該分散清洗加藥工藝后，微生物等對膜的污染可以得到控制。 3.化學清洗系統 跨膜壓差比初始上升 1.0bar（在相同溫度下），且通過反洗不能恢復時就應對CMF連續超濾裝置進行清洗。 清洗系統包括清洗溶液箱、清洗水泵及清洗過濾器，一般布置于一個機架上。該清洗為手動過程，通 常采用手動配藥方式，且需將待清洗裝置停機后進行。 清洗溶液箱 配制貯存清洗液用。容積可以按以下選定：按膜組件水容積量計算出單套CMF連續超濾裝置組件的清洗液量，加上清洗管道及清洗過濾器內清洗液的量，再適當放上一些余量。 清洗水泵 1）流量：按每支膜組件 1m3/h 流量計，乘以單套裝置組件數量即可； 2）揚程：一般取 30m H2O 左右； 3）泵的過流材質應為不銹鋼。 清洗過濾器 清洗過濾器流量可以按清洗水泵流量選取，材質為不銹鋼。 4.壓縮空氣系統 采用氣擦洗技術可以大大提高超濾的反洗效果。氣源要求無油壓縮空氣，CMF連續超濾裝置最大進氣壓力2.5bar，單支組件進氣量為5-12Nm3/h。 5.CMF連續超濾裝置程控步序表 由于CMF連續超濾裝置每 30~60 分鐘需反洗一次，故一般均為自動運行�？紤]到不同超濾系統的 進水水質差異較大，具體的運行及清洗參數、步序等宜根據現場調試情況最終確定�？偟脑瓌t是，當水質較差時，增加反洗、氣擦洗以及分散化學清洗的頻率。 |
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